반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템
기본 정보
기술 내용
요약
본 발명은 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 토치, 반응로, 폐가스 공급장치, 중화액 분사탱크, ID Fan등으로 구성된 장치로 플라즈마의 고열에너지를 이용하여 반 도체 제조공정중 발생하는 폐가스 CF4를 신속하면서 안전하게 분해 및 무해화 처리하는 콤펙트한 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템에 관한 것이다. 이를 위하여, 본 발명에 따른 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템은, 반도체 제고공정에서 발생하는 CF4 처리를 하기위해 플라즈마 가스로 N2를 사용하는 플라즈마 토치; 폐가스 처리를 위한 화학반응이 일어나는 반응 로; 폐가스를 외부로부터 반응로 내부로 투입하기 위한 폐가스투입장치; 처리된 배기가스 중에 함유된 유해성분 을 제거하기 위한 중화액을 저장한 분사탱크; 배기가스가 외부로 배출되는 배기가스덕트; 배기가스를 외부로 배 출하기 위한 ID Fan 및 굴뚝을 포함하는 것을 특징으로 한다.
기술 개요
반도체 제조공정에 발생되는 폐가스의플라즈마를이용하여 안전하게분해하는 시스템
기술 분야
본 발명은 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템에 관한 것으로서, [0001] 보다 상세하게는 플라즈마 토치, 반응로, 폐가스 공급장치, 중화액 분사탱크, ID Fan등으로 구성된 장치로 플라즈마의 고열에너지를 이용하여 반 도체 제조공정중 발생하는 폐가스 CF4를 신속하면서 안전하게 분해 및 무해화 처리하는 콤펙트한 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템에 관한 것이다.
해결하고자 하는 과제
[0023] 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명에 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템은 플라즈마 에너지를 이용하여 반도체 폐가스 CF4를 무해화 처리하는 한편, 플라즈마 가스로 질소를 사용 하여 플라즈마의 발생이 용이해지고, 플라즈마 토치의 각 구성요소별로 개별적으로 냉각수를 공급함으로써 플라 즈마 토치의 내구성이 장시간 유지되고, 별도의 스팀발생기나 예열기 없이 공급되는 물을 가열하여 스팀을 발생 시키고 폐가스를 예열할 수 있도록 하는 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
효과
[0032] 상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 반도체 폐가스 CF4 처리용 플라즈마 시스템은 반도체 폐가스 CF4를 플라즈마 에너지를 이용하여 스팀과의 반응을 유도하게 되면 무해화처리가 가능하며, 플라즈마 가스로 질소를 사용하므로 서 플라즈마 발생이 용이하면서 토치의 내구성을 장기간 유지가 가능해지며, 반응시 발생하는 열량을 이용하여 반응로 상부에 위치한 플레이트를 가열하여 반응에 필요한 스팀을 만들기 위해 공급되는 물을 가열할 수가 있고, 반응로 측면을 통과하는 폐가스를 예열하므로써 별도의 스팀발생장치나 예열기가 필요하지 않게되어 폐가스 처리를 위한 설비 설치 및 제작 비용이 적게들고 이로 인하여 운전이 용이해지는 효과가 있다.
적용 분야
플라즈마 폐기물 공정
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